射頻等離子體聚合沉積六甲基二硅氧烷

為研究新穎環保的材料表面改性技術,通過射頻等離子體聚合方法聚合沉積六甲基二硅氧烷(HMDSO)薄膜,并使用發射光譜,紅外光譜,掃描電鏡,原子力顯微鏡等測試方法,研究了HMDSO聚合膜的化學結構和物理形貌.實驗結果表明,等離子體放電空間內的活性粒子對聚合膜的組成有直接影響.HMDSO等離子體聚合膜中含有Si-O,-CH3,-OH,C-O,C-O等官能團,其表面形貌為微米顆粒堆積膜,是一種新穎的聚合物膜.